中微公司2026年前三季度营收破百亿，净利润同比增241%，刻蚀技术达0.2纳米单原子级

SmartHey10月30日消息，10月30日，中微公司（688012.SH）发布2026年第三季度报告。今年前三季度，公司实现营业收入约103.26亿元，同比增长28.08%，首次在前三季度突破百亿元大关；归属于上市公司股东的净利润达41.34亿元，同比增长241.31%。

同期，公司研发投入达32.22亿元，同比增长27.70%，占营业收入比重稳定在31.20%。截至目前，中微公司已成功研制54类高端半导体设备，涵盖26种细分型号的单反应台与双反应台可独立运行的高能CCP及低能ICP刻蚀设备，以及24种薄膜工艺设备——包括MOCVD、PECVD、LPCVD、ALD、EPI设备，还有CMP设备和面向先进封装的光学量检测设备。

截至2026年9月末，中微设备已在全球220余条产线上累计部署超9300个反应台，其稳定性、工艺精度与量产适配性获得国际主流晶圆厂持续验证，平台化商业布局成效显著。

核心产品方面，刻蚀设备持续领跑：自主研发的CCP与ICP刻蚀设备覆盖95%以上主流应用需求；超高深宽比刻蚀设备量产性能稳步提升；行业首创双反应台（Dual-Station）ICP刻蚀技术已实现0.2纳米单原子级工艺控制能力——相当于一根头发丝直径的三十分之一。

在薄膜沉积领域，面向先进存储与逻辑芯片的LPCVD、ALD等十余款导体及介质薄膜设备已批量进入市场，综合性能达到国际领先水平；EPI设备顺利完成客户端量产验证，整体覆盖率持续扩大。

2026年上半年，公司完成对杭州众硅的控股收购，正式打通化学机械抛光（CMP）设备能力，实现从“干法工艺”向“干法+湿法”全栈前道解决方案的关键跃升，成为国内唯一具备刻蚀、薄膜沉积、CMP及量检测四大核心前道工艺设备自主研发与产业化能力的综合性平台厂商。在大尺寸显示领域，公司仅用18个月即完成OLED 8.6代线PECVD设备开发，薄膜厚度均匀性控制达±5%，成功填补国内该技术空白。

自2012年以来，中微公司已连续14年保持年均销售增速超35%；人均年销售额达450万元，与国际头部设备企业持平；而人均运营成本不足国际同行一半，劳动生产率稳居全球半导体设备行业前列。